广州化工纯水设备制造的水是纯度*的水，集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等

     纯水设备是美国科技界为了研制超纯材料（半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等）应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术的制水设备，这种水中除了水分子（H20）外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，一般不可直接饮用，对身体有害，会析出人体中很多离子。

    纯水设备制造的水是纯度*的水。集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。

   广州化工纯水设备超纯水：既将水中的导电介质几乎*去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm极限值。

　　
    广州化工纯水设备超纯水,是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18.25MΩ*cm

　工作原理
1.主要部分流入树脂/膜内部，而另一部分沿模板外侧流动，以洗去透出膜外的离子。
2.树脂截留水中的溶存离子。
3.被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动。
4.阳离子透过阳离子膜，排出树脂/膜之外。
5.阴离子透过阴离子膜，排出树脂/膜之外。
6.浓缩了的离子从废水流路中排出。
7.无离子水从树脂/膜内流出。　
  安装注意

1、系统四周应留有足够空间用以连接水管、电源和更换耗材。
2、机器请安装在靠近水源、电源和水槽的位置。
3、以自来水为水源的系统，要求进水压力要符合设备要求，进水管径不得小于规定尺寸。
(如果压力较低将导致系统不能正常运转。如果压力较高将可能导致系统漏水。)

4、需考虑进水的硬度，如硬度较高，需首先对进水进行软化处理。
5、以纯化水为水源的系统，要求进水的TDS值需小于20PPM。